图3 光浮区法Ce:GGAG晶体生长中的熔区不稳现象照片(a-c);移行助剂法熔区稳定照片(d) ©RSC图4 不同助熔剂组份生长出的Ce:GGAG晶体照片 ©RSC如图5所示，孙立势突投采用gamma射线源(137Cs，孙立势突投662keV)激发下的脉冲高度谱表征其闪烁光产额，其中，组份为Gd2O3:Al2O3 =25:75的助熔剂相较于其他助熔剂组份，更为有效的控制了熔体体积，提高了晶体生长过程中的熔区稳定性，明显缓解了裂纹的萌生和扩展，生长出的Ce:GGAG晶体表现出最强的辐射发光强度和最高的光产额(34,132pho/MeV)。
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